半导体行业用除尘H13高效滤芯
半导体行业用除尘H13高效滤芯新乡伊卡过滤制造
半导体高效过滤分为空气过滤（洁净室 + AMC 分子污染过滤）
和流体过滤（超纯水、化学品、光刻胶、CMP 浆料、工艺气体）两大板块，
核心目标是控制颗粒、金属离子、凝胶、有机 / 无机分子污染物，
直接决定晶圆良率，先进制程（7nm 及以下 / EUV）
对亚纳米级污染物管控要求极高。
一、空气高效过滤（洁净室）
1. 分级系统（三级递进）
初效 G4：新风入口，拦截大颗粒，保护中高效
中效 F8/F9：AHU 空调机组，保护末端 HEPA/ULPA
末端高效 HEPA / 超高效 ULPA（FFU 风机过滤单元、吊顶终端）
H13 HEPA：MPPS 效率 99.95%，ISO7 洁净区
H14 HEPA：MPPS 效率 99.995%，ISO5 普通工艺区
U15/U16 ULPA：对 0.12μm 颗粒超高截留，EUV 光刻、
掩膜区 ISO1~4 核心区域
半导体专用 HEPA/ULPA 要求：无纤维脱落、超低析出、低硼磷溶出、
逐台扫描检漏，常用无隔板密褶结构，凝胶密封防止漏风旁路污。
